1. <mark id="qfesk"></mark><track id="qfesk"><em id="qfesk"><code id="qfesk"></code></em></track>
        <ruby id="qfesk"><li id="qfesk"><dfn id="qfesk"></dfn></li></ruby>

      1. <track id="qfesk"><i id="qfesk"></i></track>
        <optgroup id="qfesk"></optgroup>
        1. 您好,歡迎進入九江市東鴻氣體有限公司! 咨詢服務熱線:0792-5681818
          您現在所在位置:首頁 >三氟化氮

          三氟化氮

          發布時間:2019-12-30    點擊數:1692

          分子式:NF3。 
          基本性質:氣體分子量:71.01,熔點:–206.8℃(1atm),沸點:–129℃(1atm),臨界溫度:–39.3℃, 
          臨界壓力:44.02atm(4.46MPa), 
          液體密度:1554 kg/m3(1atm,沸點時), 
          氣體密度:2.95 kg/m3(1atm,21℃), 
          水中溶解度(1atm,22℃):1.43×10-5當量濃度。純凈的NF3氣體是一種無色無味的氣體,當混入定量的雜質氣體后顏色發黃,同時會有發霉或刺激性氣味。NF3氣體不可燃,但能助燃。當溫度超350℃時,三氟化氮氣體會緩慢分解,分解時產生強氧化性氟,因此,在高溫下它是一種強氧化劑。 
          CAS No.:7783-54-2。 
          UN UN.:2451  
          危險性類別:第2.3類有毒氣體,在空氣中的至高允許含量為29mg/m3。 
          產品純度: 99.99%~99.995% 
          產品包裝:47L鋼瓶,22kg/瓶;40L鋼瓶,20kg/瓶;8L鋼瓶,3.4kg/瓶;鋼瓶標準:DOT-3AA, GB5099; 
          閥門:CGA330、CGA640 
          產品用途:三氟化氮是用作氟化氫-氟化氣高能化學激光器的氟源,在h2-O2 與F2之間反應能的部分(約25%)可以以激光輻射釋放出,所HF-OF激光器是化學激光器中有希望的激光器。三氟化氮是微電子工業中一種好的等離子蝕刻氣體,對硅和氮化硅蝕刻,采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性,而且對表面沒有污染,在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中,三氟化氮具有好的的蝕刻速率和選擇性,在被蝕刻物表面不留任何殘留物,同時也是良好的清洗劑。隨著納米技術的發展和電子工業大規模的發展技術,它的需求量將日益增加。  
          銷售熱線:0792-5681818 
          手 機: (0)15279206888

          上一篇:硅烷    下一篇:無
          0792-5681818
          15279206888
          亚洲AV无码专区在线观看播放,亚洲国产综合一区第一页,亚洲蜜芽AV中文在线,欧美国产综合色视频